University of Turku is looking for an electron beam physical vapor deposition system capable of fabricating multilayer films of several materials. The system is used for fabrication and lift-off of mostly superconducting, magnetic and metal films.
Määräaika
Tarjousten vastaanottamisen määräaika oli 2019-04-16.
Hankinta julkaistiin 2019-03-13.
Toimittajat
Seuraavat toimittajat mainitaan hankintapäätöksissä tai muissa hankinta-asiakirjoissa:
Kohde Hankinnan laajuus
Otsikko: E-beam Evaporator
7/02.05.01/2019
Tuotteet/palvelut: Laboratoriolaitteet, optiset ja tarkkuuslaitteet (lukuun ottamatta silmälaseja)📦
Lyhyt kuvaus:
“University of Turku is looking for an electron beam physical vapor deposition system capable of fabricating multilayer films of several materials. The...”
Lyhyt kuvaus
University of Turku is looking for an electron beam physical vapor deposition system capable of fabricating multilayer films of several materials. The system is used for fabrication and lift-off of mostly superconducting, magnetic and metal films.
Näytä lisää
Arvioitu arvo ilman arvonlisäveroa: EUR 250 000 💰
1️⃣
Suorituspaikka: Varsinais-Suomi🏙️
Hankinnan kuvaus:
“University of Turku is looking for an electron beam physical vapor deposition system capable of fabricating multilayer films of several materials. The...”
Hankinnan kuvaus
University of Turku is looking for an electron beam physical vapor deposition system capable of fabricating multilayer films of several materials. The system is used for fabrication and lift-off of mostly superconducting, magnetic and metal films. The samples are from small chips up to 2 inch wafers. The film thickness can be monitored during the evaporation. Oxygen treatment possibility and tilting of the samples for shadow evaporation is also required. The device should be compact for small scale laboratory use. The system has to work on UHV pressure range, have a separate load lock, and have a properly designed electron beam source to achieve repeatable high purity of the evaporated films.
Näytä lisää Myöntämisperusteet
Hinta ei ole ainoa myöntämisperuste, ja kaikki perusteet ilmoitetaan ainoastaan hankinta-asiakirjoissa
Sopimuksen, puitesopimuksen tai dynaamisen hankintajärjestelmän kesto
Jäljempänä oleva aikataulu on ilmaistu kuukausina.
Kuvaus
Kesto: 12
Tietoa vaihtoehdoista
Vaihtoehdot ✅
Vaihtoehtojen kuvaus:
“A tenderer may provide as option O2 plasma cleaning in the load lock, sample heating during evaporation, alternative maintenance contracts and extended...”
Vaihtoehtojen kuvaus
A tenderer may provide as option O2 plasma cleaning in the load lock, sample heating during evaporation, alternative maintenance contracts and extended warranty (see Other Terms of the Call for Tenders). The use of options is at the sole discretion of the buyer. Options are not used in the price comparison.
Menettely Toimenpiteen tyyppi
Avoin menettely
Hallinnolliset tiedot
Tarjousten tai osallistumishakemusten vastaanottamisen määräaika: 2019-04-16
13:00 📅
Kielet, joilla tarjoukset tai osallistumishakemukset voidaan jättää: englanti 🗣️
Jäljempänä oleva aikataulu on ilmaistu kuukausina.
Vähimmäisaika, jonka kuluessa tarjoajan on pidettävä tarjous voimassa: 4
Tarjousten avaamista koskevat ehdot: 2019-04-16
14:00 📅
Ilmoitus tehdystä sopimuksesta (2019-09-03) Kohde Hankinnan laajuus
Otsikko: E-beam Evaporator
Lyhyt kuvaus:
“University of Turku is looking for an electron beam physical vapor deposition system capable of fabricating multilayer films of several materials. The...”
Lyhyt kuvaus
University of Turku is looking for an electron beam physical vapor deposition system capable of fabricating multilayer films of several materials. The system is used for fabrication and liftoff of mostly superconducting, magnetic and metal films.
Näytä lisää
Hankinnan kokonaisarvo (ilman arvonlisäveroa): EUR 200 000 💰
Kuvaus
Hankinnan kuvaus:
“University of Turku is looking for an electron beam physical vapor deposition system capable of fabricating multilayer films of several materials. The...”
Hankinnan kuvaus
University of Turku is looking for an electron beam physical vapor deposition system capable of fabricating multilayer films of several materials. The system is used for fabrication and liftoff of mostly superconducting, magnetic and metal films. The samples are from small chips up to 2 inch wafers. The film thickness can be monitored during the evaporation. Oxygen treatment possibility and tilting of the samples for shadow evaporation is also required. The device should be compact for small scale laboratory use. The system has to work on UHV pressure range, have a separate load lock, and have a properly designed electron beam source to achieve repeatable high purity of the evaporated films.
Näytä lisää Myöntämisperusteet
Laatukriteeri (nimi): Quality criteria
Laatukriteeri (painotus): 8
Hinta (painotus): 92
Tietoa vaihtoehdoista
Vaihtoehtojen kuvaus: Option 4.3, Spares for 2 years.
Menettely Hallinnolliset tiedot
Tätä menettelyä koskeva aiempi julkaisu: 2019/S 053-121411
Sopimuksen tekeminen
1️⃣
Otsikko: E-beam Evaporator
Sopimuksen tekopäivä: 2019-08-30 📅
Tietoa tarjouskilpailuista
Saatujen tarjousten määrä: 6
Toimeksisaajan nimi ja osoite
Nimi: Elettrorava SpA
Kansallinen rekisterinumero: IT00472890011
Postitoimipaikka: Venaria
Postinumero: 10078
Maa: Italia 🇮🇹
Alue: Extra-Regio NUTS 1🏙️
Toimeksisaaja on pk-yritys ✅ Tiedot sopimuksen/erän arvosta (ilman alv:tä)
Sopimuksen/osuuden kokonaisarvo: EUR 200 000 💰
Lähde: OJS 2019/S 170-415256 (2019-09-03)