Ultra-high-vacuum chamber for thin-film synthesis

University of Helsinki / Department of Physics

The Helsinki Accelerator Laboratory (HAL) at the Department of Physics of the University of Helsinki (UH) is going to acquire a multi-source ultra-high-vacuum (UHV) chamber for thin-film synthesis using magnetron sputtering and thermal evaporation. The magnetron sources will be capable of operating in direct-current magnetron sputtering (DCMS), radio-frequency magnetron sputtering (RFMS), and high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) modes. Moreover, the chamber layout will allow for performing in situ and real-time measurements of film optical properties (via spectroscopic ellipsometry) and mechanical stresses (via laser deflection techniques). RFMS and HiPIMS power supplies, as well as instrumentation for spectroscopic ellipsometry and mechanical stress measurements are not part of this tender.

Määräaika

Tarjousten vastaanottamisen määräaika oli 2022-05-20. Hankinta julkaistiin 2022-04-20.

Toimittajat

Seuraavat toimittajat mainitaan hankintapäätöksissä tai muissa hankinta-asiakirjoissa:

• Prevac sp. z o.o.

Kuka?

• University of Helsinki / Department of Physics

Mitä?

• Laboratoriolaitteet, optiset ja tarkkuuslaitteet (lukuun ottamatta silmälaseja)

Missä?

• Helsinki-Uusimaa › Helsinki-Uusimaa

Hankintojen historia

Päivämäärä	Asiakirja
2022-04-20	hankintailmoitus
2022-06-30	Ilmoitus tehdystä sopimuksesta

hankintailmoitus (2022-04-20)
Kohde
Hankinnan laajuus
Otsikko: Laboratoriolaitteet, optiset ja tarkkuuslaitteet (lukuun ottamatta silmälaseja)
Lyhyt kuvaus:

Ilmoituksen metatiedot
Alkukieli: englanti 🗣️
Asiakirjatyyppi: hankintailmoitus
Sopimuksen luonne: Tavarat
Asetus: Euroopan unioni ja WTO-maat
Yhteinen hankintanimikkeistö (CPV)
Koodi: Laboratoriolaitteet, optiset ja tarkkuuslaitteet (lukuun ottamatta silmälaseja) 📦
Suorituspaikka
NUTS-alue: Helsinki-Uusimaa 🏙️

Menettely
Menettelyn tyyppi: Avoin menettely
Tarjouksen tyyppi: Tarjous koskee kaikkia eriä
Myöntämisperusteet
Kokonaistaloudellisesti edullisin tarjous

Hankintaviranomainen
Tunnistetiedot
Maa: Suomi 🇫🇮
Hankintaviranomaisen tyyppi: Julkisoikeudellinen yhteisö
Hankintaviranomaisen nimi: University of Helsinki / Department of Physics
Postiosoite: Yliopistonkatu 3
Postinumero: 00014
Postitoimipaikka: Helsingin yliopisto
Yhteystiedot
Internetosoite: https://www.helsinki.fi/fi 🌏
Sähköposti: hankinnat@helsinki.fi 📧
Asiakirjojen URL-osoite: https://hanki.tarjouspalvelu.fi/hanki?id=396434&tpk=b3073b0e-5229-44dd-a812-05c900da5500 🌏
Osallistumisen URL-osoite: https://hanki.tarjouspalvelu.fi/hanki?id=396434&tpk=b3073b0e-5229-44dd-a812-05c900da5500 🌏

Viite
Päivämäärät
Lähetyspäivä: 2022-04-20 📅
Tarjousten jättämisen määräaika: 2022-05-20 📅
Julkaisupäivä: 2022-04-25 📅
Tunnisteet
Ilmoituksen numero: 2022/S 080-214777
EUVL-S-numero: 80

Kohde
Hankinnan laajuus
Lyhyt kuvaus:

HAL is a leading materials science environment in Finland. The current research at HAL focuses on materials of importance for nanotechnology, micro- and optoelectronics, spintronics, fusion technology, and particle detectors. Material properties are studied by applying various ion beam-based techniques, as well as by computational means. With regards to thin-film synthesis, the HAL laboratory installations presently feature one high-vacuum magnetron sputtering system and one cluster deposition chamber used by faculty members, post-doctoral researchers, Ph.D. students, M.Sc. students, and B.Sc. students for fundamental and applied research in the core areas of interest for HAL.

With the UHV deposition system described herein, HAL seeks to expand its capabilities with regard to synthesis of thin-film materials via magnetron sputtering and thermal evaporation. The UHV deposition system will primarily be a research tool to synthesize elemental and multicomponent thin films, including metals, metallic glasses, magnetic materials, metal nitrides, metal oxides, and metal carbides. Moreover, the deposition system will provide full flexibility for tuning temporal profile of the deposition flux, deposition flux energy, gas flow, substrate temperature, substrate rotation, and deposition geometry. These features will enable to control growth kinetics and understand its effect on thin-film microstructural evolution. Also, ability to perform in situ film characterization by means of e.g., spectroscopic ellipsometry and stress analysis will be prioritized. Moreover, possibility for in situ plasma analysis is an option. The system will be used by faculty members, senior researchers, post-doctoral researchers, PhD students, M.Sc. students, and B.Sc. students, as well as other researchers who have a professional connection HAL and its ongoing research activities.

A detailed technical specification, stating the minimum requirements for the deposition system to fulfill its scope is given in Appendix 2. Manufacturers are, however, encouraged to suggest additional features to better fulfill the scope of this tender.

Kesto: 3 kuukautta
Vaihtoehtojen kuvaus:

Option – Differentially pumped residual gas analyzer: A computer controlled, residual gas analyzer should be offered as an option. The residual gas analyser must allow for monitoring the gas composition up to 15 mTorr.

Menettely
Oikeusperusta: 32014L0024
Tarjousten vastaanottoaika: 14:00
Kielet, joilla tarjoukset tai osallistumishakemukset voidaan jättää: englanti 🗣️
Tarjouksen voimassaoloaika: 3 kuukautta
Tarjousten avauspäivä: 2022-05-20 📅
Tarjousten avausaika: 14:15

Hankintaviranomainen
Tunnistetiedot
Kansallinen rekisterinumero: 0313471-7
Yhteystiedot
Asiakirjojen URL-osoite: https://hanki.tarjouspalvelu.fi/hanki?id=396434&tpk=b3073b0e-5229-44dd-a812-05c900da5500 🌏

Täydentävät tiedot
Arvostelurunko
Nimi: Markkinaoikeus
Postiosoite: Sörnäistenkatu 1
Postitoimipaikka: Helsinki
Postinumero: 00580
Maa: Suomi 🇫🇮
Puhelin: +358 295643300 📞
Sähköposti: markkinaoikeus@oikeus.fi 📧
Internetosoite: http://www.oikeus.fi/markkinaoikeus 🌏
Lähde: OJS 2022/S 080-214777 (2022-04-20)

Ilmoitus tehdystä sopimuksesta (2022-06-30)
Kohde
Hankinnan laajuus
Hankinnan kokonaisarvo: 281 000 EUR 💰
Ilmoituksen metatiedot
Asiakirjatyyppi: Ilmoitus tehdystä sopimuksesta

Menettely
Tarjouksen tyyppi: Ei sovelleta

Viite
Päivämäärät
Lähetyspäivä: 2022-06-30 📅
Julkaisupäivä: 2022-07-05 📅
Tunnisteet
Ilmoituksen numero: 2022/S 127-361365
Viittaa ilmoitukseen: 2022/S 080-214777
EUVL-S-numero: 127

Menettely
Myöntämisperusteet
Laatukriteeri (nimi): Technical performance and scientific potential of the proposed solution
Laatukriteeri (painotus): 50
Laatukriteeri (nimi): Service, support, and warranty
Laatukriteeri (painotus): 10
Laatukriteeri (nimi): Delivery time
Hinta (painotus): 30

Sopimuksen tekeminen
Sopimuksen tekemispäivä: 2022-06-29 📅
Nimi: PREVAC sp. z o.o.
Kansallinen rekisterinumero: PL6471782175
Postiosoite: ul. Raciborska 61
Postitoimipaikka: Rogów
Postinumero: 44362
Maa: Puola 🇵🇱
Hankinnan kokonaisarvo: 281 000 EUR 💰
Tietoa tarjouskilpailuista
Saatujen tarjousten määrä: 2
Lähde: OJS 2022/S 127-361365 (2022-06-30)

Uudet hankinnat asiaan liittyvissä luokissa 🆕

Laboratoriolaitteet, optiset ja tarkkuuslaitteet (lukuun ottamatta silmälaseja) (19 uudet hankinnat)