Oxide Plasma Etch tool
The object of the tender process is to acquire a plasma etch tool capable of etching oxide and dielectric layers. The tool must be of industry-standard performance and high reliability.
The procurement is described in detail in the invitation to tender documents.
Määräaika
Tarjousten vastaanottamisen määräaika oli 2017-07-24.
Hankinta julkaistiin 2017-06-19.
Toimittajat
Seuraavat toimittajat mainitaan hankintapäätöksissä tai muissa hankinta-asiakirjoissa:
Kuka?
Mitä?
Missä?
Hankintojen historia
| Päivämäärä |
Asiakirja |
| 2017-06-19
|
hankintailmoitus
|
| 2017-10-10
|
Ilmoitus tehdystä sopimuksesta
|