Scanning electron microscope for electron beam lithography system
Thermal field emission scanning electron microscope for electron beam lithography system fully compatible with Nanometer Pattern Generation System from JC Nabity Lithography Systems (NGPS).
Määräaika
Tarjousten vastaanottamisen määräaika oli 2012-06-26.
Hankinta julkaistiin 2012-05-09.
Toimittajat
Seuraavat toimittajat mainitaan hankintapäätöksissä tai muissa hankinta-asiakirjoissa:
Kuka?
Mitä?
Hankintojen historia
| Päivämäärä |
Asiakirja |
| 2012-05-09
|
hankintailmoitus
|
| 2012-09-17
|
Ilmoitus tehdystä sopimuksesta
|