Ion Beam Etcher for nanofabrication
We seek a complete turn-key, standalone Ion Beam Etcher capable of very accurate etching of thin, nanometer-scale structures. The tool can be used for silicon and III-V semiconductors, but also to etch metals and various insulators on chips and wafers up to 150 mm.
More detailed requirements are presented in the invitation to tender, available on request at:
registry@aalto.fi
Please include the reference D/119/01.01.04.00/2014 in the request message.
Määräaika
Tarjousten vastaanottamisen määräaika oli 2015-02-06.
Hankinta julkaistiin 2015-01-12.
Toimittajat
Seuraavat toimittajat mainitaan hankintapäätöksissä tai muissa hankinta-asiakirjoissa:
Kuka?
Mitä?
Hankintojen historia
| Päivämäärä |
Asiakirja |
| 2015-01-12
|
hankintailmoitus
|
| 2015-05-26
|
Ilmoitus tehdystä sopimuksesta
|